基于“荷叶效应”原理，首先研究了等离子体处理功率、时间和气氛(氮气、氧气、氩气、氦气)对处理后PVDF薄膜表面疏水性和刻蚀效果的影响。结果显示：氧气氛刻蚀效果最明显；等离子处理后表面产生了活性基团，为后续的表面化学改性提供了反应性基团；但在实验条件下，只采用等离子刻蚀技术不能使PVDF表面获得防污自沽的效果。　　 对经氧气等离子处理后的薄膜，经等离子加强化学气相沉积法进一步对其表面做了疏水改性。研究了等离子加强化学气相沉积过程中的各因素对沉积效果的影响，沉积最佳工艺为：活性单体选用含氟丙烯酸酯，气压10Pa，处理时间20min，功率200W。改性薄膜表面静态接触角为142°，滚动角为7°。　　 对经氧气等离子处理后的薄膜进行接枝改性，探讨了接枝单体浓度、引发剂用量、接枝时间对改性薄膜表面性能的影响，最佳处理工艺为：接枝单体浓度20％，引发剂用量0.3％，接枝时间20min。所得接枝改性PVDF薄膜表面静态接触角达到150°，并且滚动角小于5°，具备了超疏水的性能，集灰试验表明防污自洁性能良好。　　 研究了SiO2粒子的改性、超疏水表涂剂制备及应用。应用含氟硅烷偶联剂对SiO2粒子进行表面改性，并制备了改性SiO2粒子涂层剂，探讨了涂层剂中各组分对制备超疏水表面性能的影响。涂层剂最佳工艺配方：改性SiO2粒子1％，氟树脂3％，增稠剂15％。涂层后获得了静态接触角可达162°，滚动角小于3°的超疏水表面，SEM和AFM显示这种涂层表面已经具备了类似于荷叶结构的微纳米双重结构。　　 初步探讨了表面粗糙结构对表面疏水性及防污自洁性能的影响，构筑了简单数学模型。涂层剂在PVDF面层膜材上的应用可显著提高其表面疏水性，静态接触角达到146°，滚动角7°，集灰试验表明防污自洁效果显著。　　 PVDF薄膜制备工艺对薄膜表面性能及结晶产生影响，制膜最佳工艺：烘干温度110°，烘干时间30min，焙烘温度160°，焙烘时间5min。在PVDF膜制备过程中发现了“晶须”。