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在发光器件领域,SiC被认为是替代Si的理想材料,SiC量子点由于量子限制效应而导致的独特光电性能倍受人们的青睐。本文采用交替磁控溅射和后续在N2的保护下进行退火处理的方法制备了SiC量子点分散在ZnO基体中的半导体纳米颗粒膜,系统研究了不同溅射工艺和退火温度、时间对SiC/ZnO纳米颗粒膜微观结构和光致发光性能的影响。根据XRD分析,在750℃以下退火,ZnO基体的结晶性能随着退火温度的提高而得到改善并具有明显的c轴取向,当退火温度升高到800℃以上时,ZnO基体的结晶性能变坏,这可能是