【摘 要】
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该文首先论述了电子枪电子光学系统设计的基本原理和选择的计算方法.利用Fortran语言自编程序,设计出了满足7.6cmYAG投影管使用要求的磁聚焦电子枪.在此基础上,针对研制成功
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该文首先论述了电子枪电子光学系统设计的基本原理和选择的计算方法.利用Fortran语言自编程序,设计出了满足7.6cmYAG投影管使用要求的磁聚焦电子枪.在此基础上,针对研制成功的12.7cmMAO投影管（扫描面积10.1×7.6cm<'2>）,我们引进国外Z型静电聚焦（Hi-UPF）电子枪,通过对相应模具的设计,实现了该枪与我们特制的芯柱的焊接,并改进了其高压阳极筒的结构,设计出消气剂的最佳位置,使该枪在12.7cmMAO投影管顺利使用.同时利用EBS（ElectronBeamSimulation）软件,对该枪主要参数进行计算分析,提出了结构优化建议并给出计算数据.最后,该文对高分辨率投影管用双束电子枪的结构进行了初步设计计算.
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