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液晶自适应光学系统中,液晶波前校正器作为核心器件,能否实现快速响应是制约其发展的瓶颈因素。目前响应速度的提升主要由液晶材料和器件制备工艺等决定。对于通过开发液晶材料来提升响应速度的方法,研究者合成了高双折射率低粘度的向列相液晶和新型的液晶材料(如双频液晶等),然而该方法的优化潜力已基本达到极限。因此,通过对液晶波前校正器的制备工艺进行研究,进一步挖掘其提速的潜力显得尤为重要。为了加快液晶波前校正器的响应时间,本论文首先对液晶波前校正器的制备工艺进行了研究,分别从基板清洗、取向处理、制盒工艺等方面进行