石墨烯作为21世纪一种新型的纳米材料,由于其具有许多特殊的性质,包括室温下的反常量子效应、高电子迁移率、独特的抗热传导率和优异的机械性能等,致使石墨烯具有广泛应用空间,因此如何制备出高质量的石墨烯对其应用前景的研究是至关重要的。化学气相沉积法作为制备石墨烯的主流方法,对其制备工艺的充分理解对于制备出高质量的石墨烯是非常重要的。本文介绍了CVD法制备石墨烯的工艺流程,通过改变氢气和甲烷的浓度来分析比较了APCVD和LPCVD制备石墨烯的差异性,并通过表征图谱的分析总结出了制备高质量的、大面积的单层石墨烯的工艺条件。此外,通过实验研究,总结出了利用PMMA成功转移大面积、高质量石墨烯的工艺流程,并对转移好的石墨烯进行表面功能化处理。通过实验研究发现,利用原子层沉积法(ALD)在经臭氧照射处理过的石墨烯的表面沉积有0.5nm的Zn0时,对甲醛气体的敏感性有很大的提高。对于9ppm的甲醛气体电阻变化率可达50%以上,其响应时间也有明显的下降,而且可测试的最低浓度可达到180ppb。表明石墨烯经过表面功能化后,对某些气体将变得更敏感。希望通过本文的研究分析,为高质量的单层石墨烯的制备以及在气敏传感性能方面的研究奠定一定的基础。