超细二硼化锆粉体的快速合成与机理研究

被引量 : 8次 | 上传用户:yinjie340
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
二硼化锆及其陶瓷材料具有优异的物理化学性能,如高熔点、高硬度、高稳定性及抗腐蚀性、良好的导电导热性能及中子控制能力,因此在超高温材料、耐磨涂层、高温电阻、中子吸收剂等方面有广阔的应用前景。但是目前制备的二硼化锆粉体粒度大、活性低、难以烧结,且高纯超细粉体难以大量合成,限制了其广泛应用。所以为了提高ZrB2及其复相陶瓷材料性能,合成超细ZrB2粉体越来越受到重视。本论文以纳米氧化锆和细化后的非晶硼粉为原料通过硼热还原快速合成超细二硼化锆粉体。论文对硼粉细化工艺、快速合成工艺、后续纯化工艺进行
其他文献
随着集成电路的发展特征尺寸不断下降,制备厚度薄且具有良好热稳定性的扩散阻挡层变得越来越具有挑战性。因此在Cu膜中直接添加少量元素来制备Cu种籽层的无扩散阻挡层结构受到了广泛关注。本论文采用磁控溅射方法,制备了无扩散阻挡层Cu(Sn), Cu(C)和Cu(Sn,C)薄膜。研究了单独掺杂大原子Sn,小原子C以及同时掺杂大原子Sn和小原子C对Cu膜的微结构和性能的影响。大原子Sn在Cu中有一定的固溶度,
学位
介质阻挡放电(DBD)等离子体增强热丝化学气相(HWCVD)沉积技术结合了PECVD与HWCVD的特点,具有沉积速率高、无离子损伤等优点,在薄膜沉积中有广泛的应用前景。本文以DBD-HWCVD法沉积硅薄膜,利用Raman散射谱、透射光谱、X射线衍射谱和扫描电子显微镜、Hall等检测手段,系统研究了硅薄膜的性质,研究内容包括:介质阻挡放电的峰值电压对硅薄膜结构性质的影响;沉积气压对硅薄膜结构性质的影
学位
由铁磁金属纳米颗粒分散在氧化物绝缘介质中形成的颗粒膜近年来引起人们极大的研究兴趣,其输运特性与铁磁金属颗粒大小和颗粒间距有很大的关系。颗粒薄膜中具有的巨磁电阻效应、高频软磁性能、巨霍尔效应、高矫顽力效应等新特性,使其在磁性传感器件、高密度记录介质、读出磁头和磁性随机存取存储器等得到广泛研究,从而使得这种薄膜有着广阔的应用前景。Fe-MgO颗粒膜采用磁控溅射系统交替溅射法制备,通过调整溅射功率以控制
学位
周期性结构的金属薄膜中光的超强透射现象具有广泛的应用前景,能够为纳米尺度对光实现控制打开新的局面,并且可以越来越多的应用于光集成和传感技术。本论文主要研究亚波长金属薄膜孔阵列的超强透射现象和布拉格光栅结构对其的调控作用。对于这种超强透射的物理机制,众说纷纭,结论趋向于两种,其一是由于周期性孔阵列激起的表面等离子体共振SPR(Surface Plasmons Resonance)耦合作用,令一种说法
学位
CeO2具有立方氟化钙结构,良好的高温稳定性,较高的热导率,是理想的SOI结构绝缘材料。此外,CeO2还在高K栅介质材料、光学薄膜方面有着广阔的应用前景。论文采用脉冲激光沉积技术(PLD)在不同硅衬底上生长CeO2薄膜,研究了CeO2薄膜的生长特性。主要内容如下:(一)采用Ce靶和CeO2靶在Si(100)衬底上沉积CeO2薄膜。通过XRD、RHEED对其晶体结构进行表征,发现所制备的薄膜呈高度的
学位
常规的下料方法都有下料力大、能耗大、振动噪声大、模具结构复杂且寿命低等缺点。而疲劳断料法可达到100%的材料利用率,还可以获得比剪切下料更为理想的断面质量,高效率低能耗更是他的特点。本文采用一种反旋转弯曲疲劳断料机构,它的原理是对夹紧棒料进行弯扭交变载荷作用,利用工件的疲劳破坏效应进行疲劳断料。针对反旋转弯曲疲劳断料机在加工过程中产生振动和噪声大的问题,对其在加工过程中产生的振动进行分析,对进一步
学位
氧化锌(ZnO)是直接带隙宽禁带半导体材料,具有六角纤锌矿结构,室温下禁带宽度为3.37eV,激子束缚能高达60meV,因其非常优越的光电性能以及在光电子器件中的巨大应用价值而被誉为“二十一世纪半导体”。非掺杂ZnO通常是一种典型的n型半导体,这归结于ZnO中的结构缺陷。然而,对ZnO进行不同元素的掺杂并研究其掺杂后的各种性质日趋成为热点。本论文采用KrF准分子脉冲激光沉积技术,系统地研究了掺铜Z
学位
本文重点介绍了无网格法,以及点插值无网格方法的研究背景,研究内容,应变光滑技巧等。点插值方法是无网格方法的一种,便于施加本质边界条件,与有限元法(FEM)具有很好的结合。基于有限元法的一些处理技巧都可以经过小的改动应用到点插值方法中。本文首先介绍了无网格法,特别是点插值无网格方法的研究背景,研究内容,应变光滑技巧等。本文的主要工作是:结合FEM和应变光滑技巧提出了一种新型的光滑点插值无网格方法(H
学位
层层组装是一种基于分子间弱相互作用通过交替沉积在基底表面构筑多层膜的技术,经过近二十年的发展,人们在不断扩展层层组装的推动力和成膜物质的同时,积累了大量多层膜结构调控的经验,进而使层层组装技术成为构筑功能膜的有力手段。层层组装便于实现对膜组成及结构进行调控的优势是其应用于多种功能膜材料制备的重要原因,因此,深入系统地研究层层组装多层膜的结构调控规律是开发先进功能膜材料的重要基石。聚合物复合物作为一
学位
本论文以气体分离膜应用为背景,制备了联苯聚醚砜(PPSU)基碳纳米管混合基质膜。首先采用混酸氧化法对单壁碳纳米管(SWNT)进行修饰,使碳纳米管上产生大量极性基团,以增强其与聚合物基体间的相互作用,考察了修饰过程对孔结构的影响;为了增加SWNT与PPSU的相容性以及复合膜的耐溶剂性,对联苯聚醚砜的分子结构进行设计,合成了磺化二氯二苯砜和烯丙基联苯二酚两种单体,采用亲核取代反应合成了一系列侧链含磺酸
学位