超细铝、硅氧化物的分散及稳定性研究

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在许多领域,超细颗粒的分散已成为提高产品质量和性能及提高工艺效率不可缺少且十分重的技术手段.在矿物加工领域,控制分散是获得选择性浮选分离的重要条件.在集成电路制造业的化学机械抛光工艺技术中,抛光剂超细SiO<,2>,Al<,2>O<,3>粒子的充分分散是获得0.15μm芯片表面平整度的前提.该文以超细颗粒在液相介质中的赋存状态的理论研究成果和化学机械抛光研磨液的应用研究基础上展开工作.实验研究了超细SiO<,2>,Al<,2>O<,3>粒子在水介质,有机介质中的分散与凝聚的规律,分析了pH值,分散剂及表面活性剂对于 颗粒分散的影响,并用颗粒间相互作用DLVO及EDLVO理论进行解释.基于以上分散与聚团理论的研究结果,制备出抛光液磨料粒子SiO<,2>,Al<,2>O<,3>溶胶.溶胶平均粒径在30-50nm范围,在适宜的浓度,温度、pH值及分散剂条件下,溶胶可长时间存放,而不会凝聚和沉淀分层.
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