Ge/SiO_2薄膜的光学特性和应用研究

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Ge和Si都是间接带隙半导体材料,在光吸收和光发射方面与直接带隙材料相差甚远,这就影响了它在光电子方面的应用。人们为了突破体材料在光学特性方面的限制,在硅基质上制备了半导体量子点材料,这种纳米半导体材料,在光发射、光吸收以及三阶非线性光学等方面展现出了优异的特性,弥补了体材料的不足,为实现以硅为基质材料的光子器件迈出了重要的一步。这种纳米半导体复合材料在发光、显示、信息储存、传输、处理、光电探测及高速光开关等领域有着广泛的应用前景。本文采用射频磁控反应溅射技术制备了富Ge二氧化硅薄膜,通过高
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为了研制高频(2.5GHz)大功率SAW滤波器所需的基底材料---“IDT/AlN/Diamond”多层膜结构,本文建立了“IDT/AlN”结构和“IDT/AlN/Diamond”结构的几何模型,通过有限元分析软件ANSYS的多物理场压电分析模块来分别进行模态分析和谐响应分析,得到如下结论:(1)关于“IDT/AlN”结构,基频谐振频率f_r= 1.248GHz,反谐振频率f_a= 1.266GH
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透明导电氧化物(TCO)薄膜具有透明性和导电性,广泛应用在平面显示器、太阳能电池、表面发热器、热辐射反射镜、电磁屏蔽以及辐射防护等领域。掺铟氧化锡(ITO)薄膜属于透明导电氧化物薄膜中的一种。本文在室温条件下制备了ITO薄膜,采用紫外-可见光-红外分光光度计、四探针电阻仪、AFM、XRD、SEM等仪器对薄膜的光电性能和表面形貌进行了测定和分析。本文采用直流磁控溅射法室温条件下制备了ITO薄膜,优化
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无铅BiFeO3 (BFO)铁电薄膜是在室温下唯一同时具有铁电性和G型反铁磁性的多铁性材料,它属于R3c点群(a = 5.36 (A|°),α= 59.348°),具有扭曲的菱方相钙钛矿结构。BFO薄膜具有较大的剩余极化,较高的居里温度(TC = 1103 K)和奈尔温度(T_N = 643 K),这使它成为高密度非挥发性铁电随机存储器和其它诸如传感器、微波调制器、红外探测器等应用方面具有潜力的物
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铁电体薄膜材料因具有热电、光电、压电及高温超导等性能而被广泛应用于众多科技领域。薄膜的各种功能和特性与其生长形成的机制具有密切的关系,因此,通过各种方法研究薄膜在不同生长条件下的形成过程,探索改善和提高薄膜质量的途径成为薄膜材料研究的主要课题。一般情况下,对于薄膜的生长大多通过理论计算和实验观察进行研究,随着计算机技术的快速发展,利用计算机建立各种模型模拟薄膜的生长过程并进行相关分析成为理论推导和
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