溶液流延法制备高介电常数聚偏氟乙烯复合膜

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随着电子产品迅猛发展,需要一种可以存储更多电子能量的材料,聚偏氟乙烯(PVDF)有着高介电常数、低介电损耗和良好的击穿性能,有望满足这种需求而被广泛关注。虽然聚偏氟乙烯的各项性能的理论值比较高,但是在实际应用中介电常数和击穿强度还是较低,因此本文主要是对PVDF进行改性,以提高其性能。本文采用溶液流延法为制备工艺,主要添加钛酸铜钙(CCTO)改性聚偏氟乙烯,利用拉伸处理和添加钛酸钡(BaTiO3)进行横向对比,然后使用偶联剂(FT-922)处理CCTO改性聚偏氟乙烯,接着利用最佳配比的偶联剂处理CCTO改性聚偏氟乙烯。通过傅立叶红外光谱、X射线衍射、示差扫描量热(DSC)和扫描电镜(SEM)对改性产物的结构和性能进行研究。研究结果发现:采用拉伸处理后的PVDF击穿强度明显提高,当伸长率在250%时,击穿强度可达200MV/m,但介电常数相比未做拉伸处理的有所降低,而无机粉体BaTiO3/CCTO改性聚偏氟乙烯的介电明显提高,并且伴随着无机粉体含量的增加,击穿强度有所下降,当含量在10%时,综合性能比较良好。用偶联剂处理CCTO改性聚偏氟乙烯膜介电常数较高,而且击穿强度有所改善,其中当偶联剂的质量比为2%时效果最佳。偶联剂处理质量比为20%的CCTO时,制作出的膜性能较好,表面比较致密,所得的击穿强度也很高。
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