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本文的第一部分制备了金属离子桥接的18β-甘草次酸印迹整体柱,实验中以1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐、二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺([BMIM]BF4/DMSO/DMF)为三元致孔剂,4-乙烯基吡啶和二甲基丙烯酸乙二醇酯分别为单体和交联剂,钴离子为金属桥接剂,18β-甘草次酸为模板,通过原位聚合的方法合成整体柱。通过合成条件和色谱条件的优化,获得的最佳制备条件为模板:单体:交联剂的摩尔比例是1:4:20,最佳的金属离子是钴离子。此时制备的整体柱拥有最强的识别性和选择性,印迹因子为3.50。而在