CVD合成纳米金刚石薄膜及其动力学研究

来源 :中国科学院安徽光学精密机械研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fang200710081202fang
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该论文论述是的合成纳米金刚石薄膜的实验及其动力学理论分析的结果.实验采用辉光等离子体和激光辅助热丝CVD技术,并以薄膜合成的动力学过程进行了实时光学发射谱(OES)诊断,目的是降低衬底基片的温度,以实现高品质纳米和亚微米金刚石薄膜的低温合成,研究金刚石薄膜的低温合成机理,建立其初步的动力学模型.该文的工作利用辉光等离子体和激光辅助热丝CVD技术,对基片温度在850℃~380℃温度范围高品质纳米和亚微米金刚石薄膜的合成进行了系统研究.
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