【摘 要】
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该论文工作包括两个部分.第一部分设计并合成了新型的用于LIGA的聚合物,α-取代聚酯系列,对其化学性能和光刻工艺进行了较为深入的研究,测定了乙交酯与丙交酯的竞聚率,提出了
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该论文工作包括两个部分.第一部分设计并合成了新型的用于LIGA的聚合物,α-取代聚酯系列,对其化学性能和光刻工艺进行了较为深入的研究,测定了乙交酯与丙交酯的竞聚率,提出了光刻胶的裂解机理,并应用于同步辐射的深度光刻.合成的聚合物光刻性能良好,是一种高灵敏度的光致抗蚀剂.第二部分工作是在正性光刻胶PMMA的基础上对其进行改性,利用等离子体引发聚合得到了高分子量的三元共聚物PCMMA-S+-MAA),提高了光刻胶的灵敏度.
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