透明导电氧化物（TCO）薄膜由于其优良的可见光透过性和导电性在平板显示器件、触摸面板、太阳能光伏电池、反射热镜、气体敏感器件和透明PN结等领域有着广阔的应用前景。本学位论文采用脉冲激光沉积技术（PLD）制备铌掺杂二氧化钛（TNO）透明导电薄膜,并对薄膜的结构、光学性能以及电学性能进行了详细的研究。结果表明所制备的TNO薄膜具有良好的可见光透过率以及低的电阻率,满足透明导电薄膜的基本要求。论文的主要内容和结论如下:（1）采用PLD技术在熔融石英衬底上制备了掺杂的锐钛矿TiO₂薄膜。通过X射线衍射仪（XRD）、X射线荧光（XRF）、原子力显微镜（AFM）、场发射扫描电镜（FSEM）对TNO薄膜的结构、组分、表面形貌进行了测试与表征。研究表明,当激光能量密度为3J/cm²、重复频率为4Hz、沉积温度为600℃、氧压为0.8Pa时,薄膜为（101）择优取向的锐钛矿多晶膜,薄膜厚度约为190nm。（2）采用紫外可见光光度计研究了TNO薄膜在可见光波段的平均透过率,结果表明所制备的薄膜可见光透过率都超过70%,薄膜的紫外吸收边随氧压的增大发生了蓝移。（3）采用四探针平台和霍尔测试仪对TNO薄膜的电性能进行了研究。结果表明真空退火使TNO薄膜的电阻率大大降低,当激光能量密度为3J/cm²,重复频率4Hz,氧压0.5Pa,退火温度为400℃时,薄膜的电学性能最佳,此时电阻率ρ为1.1×10^-3Ωcm,载流子浓度n为5.59×10²⁰cm^-3,霍尔迁移率μH为2.33cm²/Vs。