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该论文采用直流磁控溅射方法,以Ar+N<,2>作为放电气体,在玻璃衬底上制备了氮化铁薄膜.实验中所改变的沉积参数分别是氮气流量、衬底温度、衬底偏压和励磁功率.通过X光电子能谱(XPS)对沉积的氮化铁薄膜成分及化学键合进行了研究;通过X射线衍射实验(XRD)对氮化铁薄膜的结构进行了分析;采用原子力显微镜(AFM)研究了氮化铁薄膜的表面形貌;通过超导量子干涉仪(SQUIDS)获得了薄膜的饱和磁化强度和矫顽力的大小;利用掠入射X射线分析仪(GIXA)和原子力显微镜获得了薄膜表面的粗糙度信息,结合动力学标度方法分析了薄膜的生长机制,并对氮化铁薄膜动力学生长普适类进行了归属.