随着MEMS技术的不断发展与MEMS器件加工工艺的不断完善,应用MEMS技术设计并制造各种微惯性器件成为研究的热点。微惯性器件具有体积小、质量轻、集成度高、能耗低等优点,因而在航空航天、军事等领域中有着十分广泛的应用前景。微惯性器件的加工方法主要有薄膜工艺、体硅工艺、UV-LIGA工艺等等,UV-LIGA工艺具有加工结构深宽比大、Z向加工能力好、材料选取范围宽等优点,因而采用UV-LIGA工艺加工微惯性器件具有更宽的加工能力与更大的优越性。本文以UV-LIGA工艺作为研究对象,对SU-8光刻工艺进行参数优化,完成微电铸实验平台搭建,探索直流电铸工艺参数的影响与优化方法以及换向脉冲电铸工艺的参数选取与优化方法。主要内容如下:1. SU-8紫外光刻工艺参数的优化通过对SU-8光刻工艺原理的分析,采用实验手段,通过对比选取不同SU-8光刻工艺参数得到的结果,分析不同参数对于加工结果的影响,确立优化的SU-8光刻工艺参数。2.直流电铸工艺结合UV-LIGA工艺特点,确定了氨基磺酸镍电解液体系,运用实验手段,对直流电铸工艺参数进行了分析,总结了温度、电流密度、pH值等参数对于电铸工艺的影响,得到了较为合理的直流电铸工艺参数。3.换向脉冲电铸以直流电铸加工结果为基础,实现换向脉冲电铸加工工艺,通过对不同参数的选取,总结了脉冲时间参数与峰值电流密度等参数的影响与作用,得到了经过优化的加工结果。通过对SU-8光刻工艺的优化分析,本文得到了较为合理的光刻工艺参数,实现了侧壁陡直、有足够强度的光刻工艺结果。通过对微电铸工艺进行实验研究,分别用直流电铸工艺与换向脉冲电铸工艺得到了光亮、均一、排布紧密、硬度中等的电铸镀层。