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酞菁化合物薄膜的光谱性质和光存储性质
酞菁化合物薄膜的光谱性质和光存储性质
来源 :中国科学院上海光学精密机械研究所 | 被引量 : 0次 | 上传用户:thinkcell
【摘 要】
:
该文综述了光存储技术的研究现状及发展趋势,重点介绍了有机光致变色材料以及酞菁薄膜的研究状况,在此基础上,采用LB、旋涂等技术手段制备了多种酞菁薄膜,研究了它们的光谱性
【作 者】
:
尹津龙
【机 构】
:
中国科学院上海光学精密机械研究所
【出 处】
:
中国科学院上海光学精密机械研究所
【发表日期】
:
1999年期
【关键词】
:
酞菁
聚集体
薄膜
LB技术
吸收光谱
可擦重写
光存储
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该文综述了光存储技术的研究现状及发展趋势,重点介绍了有机光致变色材料以及酞菁薄膜的研究状况,在此基础上,采用LB、旋涂等技术手段制备了多种酞菁薄膜,研究了它们的光谱性质、聚集体变化,并初步测试了它们的光存储性能.
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