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本研究以山杏和龙王帽、曹杏、兰州大接杏的成熟种子所得到的下胚轴和子叶以及其无性系叶片为材料,研究了外源植物生长调节剂种类及其浓度组合、培养基类型、暗培养时间、接种方式等因素对茎尖培养增殖效率、愈伤组织诱导率、再生频率和试管苗生根的影响。通过试验初步建立了山杏的下胚轴、子叶和叶片再生体系。研究结果表明: (1) 经15d 的暗培养,山杏下胚轴切段在附加TDZ 2mg/L、NAA 0.5mg/L 的改良MS培养基(1/2NH4NO3)上愈伤组织诱导率(100%)和再生频率(37.5%)均最高,含6-BA 1.0mg/L 和NAA0.5mg/L 的培养基上也获得了相对较高的愈伤组织诱导率(96.4%)和再生频率(28.6%)。细胞分裂素用TDZ 效果优于6-BA。基本培养基的效果依次为改良MS> QL >WPM。不定芽在QL+6-BA 0.8 ㎎/L+IBA 0.1 ㎎/L 培养基上的增殖倍数和新梢率最高。在改良MS+IBA 0.2mg/L 培养基上培养形成完整植株,生根率为75.8%,平均根数为3.0 条,最多可形成5～6 条。首次获得了山杏下胚轴再生植株。 (2) 经15～20d 的暗培养后,山杏子叶在再生培养基上培养17～40d 内产生不定芽。在含TDZ 2.0mg/L、NAA0.75mg/L、AgNO3 4mg/L 的QL 培养基上愈伤组织诱导率(81.0%)和再生频率(21.5%)均最高。6-BA 对山杏子叶愈伤组织诱导能力弱于TDZ。AgNO3 4mg/L 促进山杏子叶愈伤组织诱导。愈伤组织多产生于和培养基接触的切口处和切去胚芽的切面上,多次继代并不能提高愈伤组织诱导率及再生频率。 (3) 山杏在QL+6-BA 0.8mg/L+IBA 0.1mg/L 培养基上增殖倍数和新梢率均较高,分别为5.3 和24.2%。在C4 培养基上对四个品种的茎尖培养研究结果表明:四个品种的增殖倍数和新梢率依次均为山杏>龙王帽>曹杏>兰州大接杏。 (4) 山杏叶片在暗培养10d 后就可以产生愈伤组织,最初产生在叶片的叶柄处和叶脉的切口处,经继代培养,于接种后40～60d 左右开始陆续产生再生不定芽。在QL+TDZ(0.5、1.0、2.0、4.0mg/L)+NAA (0.25、0.75、1.25mg/L)培养基上的培养结果表明,TDZ 浓度对山杏叶片的愈伤组织诱导率和再生频率的作用大于NAA。暗培养15d后,在QL+TDZ 2mg/L+ NAA 0.75mg/L 的再生培养基中添加AgNO3浓度为4.0mg/L 时的愈伤组织诱导率为100%,再生率为8.3%。山杏叶片正面接触培养对叶片再生效果较好,愈伤组织诱导率比以叶片背面接触培养基高出31.4%。