论文部分内容阅读
基于Parratt循环光学理论和软X射线光学多层膜的选材原则,设计了应用在18 nm附近的Ti/Al软X射线光学多层膜(Λ=9.25 nm,Γ=0.3,N=20)。用磁控溅射法制备了溅射气压为0.5 Pa和2.0 Pa的Ti/Al多层膜,并对它们的结构和热稳定性进行了研究。Ti/Al多层膜的结构和热稳定性是溅射气压的函数,低溅射气压(0.5 Pa)下制备的多层膜具有相对高质量、有序的结晶层,具有相对较小的表面粗糙度,热稳定性好;高溅射气压(2.0 Pa)下制备的多层膜调制周期性差,晶向较