浸没式光刻技术是当前唯一实际应用在45nm以下集成电路生产线上的技术，通过浸没单元在硅片和投影物镜之间维持折高射率的液体，提高光刻的分辨率，是对原有干式光刻的继承，是最有竞争力的新一代光刻技术。浸没液体作为光路的一部分，需要浸没单元中的液体具有较高的纯度且能够及时更新以保证浸没液体具有稳定、良好的光学性能。作为直接与浸没单元连接，并为浸没单元供液、回收及气密封的装置，浸液传输控制系统需要具备很稳定的供液能力、供气能力及回收能力，其性能直接决定浸没单元中浸液流场的建立及稳定，因此研制浸液传输控制系统对于浸没式光刻机尤为重要。　　本文针对浸没式光刻浸液传输控制的指标要求，设计出一套浸液传输控制装置，研究并优化了其回收控制策略，并开发了其系统控制软件。具体完成工作主要包括:　　1.针对浸没式光刻机对浸液传输控制的要求，设计了系统原理图，制定系统工作时序;对组成系统的核心器件进行选型，统计系统的控制信号;确定了“工控机+数据采集卡”的控制方式，并绘制了控制原理框图，并对控制信号进行了端口分配。　　2.对控制系统的控制方案进行了优化设计:分析系统控制方案，对回收单元负压控制系统提出优化;确定了串级控制的控制结构解决间接负压控制系统中余差、时滞和多扰动等技术难题;对系统静态模型进行系统辨识，并估计干扰模型;将负压控制过程分成了4个控制阶段，并建立了阶段切换规则;确定了非线性PI算法，且针对不同阶段采用不同的PI参数;对算法进行仿真和实物实验验证，验证了本算法具有较高的负压控制精度及鲁棒性。　　3.对控制系统进行了详细的软件设计和实现，开发了一套基于.NET的控制软件，将控制系统的软件分为多个模块，并分别介绍了各个模块的设计;并用伪代码表示了软件的实现过程;最后列举了软件的外部依赖项。　　4.对控制系统进行了详细的综合性能测试，主要包括工控机和数据采集机箱的通讯测试，控制软件的运行测试，控制性能的测试，测试结果满足系统的设计要求。　　5.最后总结了研究内容及设计经验，提出浸液传输系统设计的不足之处，并对后期的研究提出了改进建议。