欠电位沉积的本质是沉积原子与基底之间强的相互作用,属于特殊的只附过程,因而,电极表面结构、电极/溶液双电层结构、以及其它物种的吸附将显著地影响欠电位沉积的生长行为以及最终形成的结构;以外,对沉积金属与基底金属具有体相互溶性的体系,其欠电位沉积行为将更为复杂.因此,不同晶面结构和阴离子吸附对欠电位沉积研究中比较关注的问题.然而,目前色大多数现场SPM研究局限在基底结构比较简单的低指数晶面,如(111)、(100)晶面上欠电位沉积层的平衡吸附结构,而对欠电位沉积的动态过程缺乏了解,对欠电位区合金化过程的研究更为匮乏,因此对欠电位沉积本质的认识远未清楚.Sn易与其它金属形成合金,在无铅焊接、电镀等方面具有较强的应用背景.它的欠电位沉积将包括可能发生的与基底表面的合金化过程,将有助于全面而深入地理解欠电位过程的本质.该论文选择Sn为沉积金属,用现场STM对其在欠电位区的沉积行为开展研究,着重从表面结构和阴离子吸附影响欠电位沉积的机制的角度展开讨论,并与其它的欠电位沉积体系进行了横向比较;同时,该文还利用表面增强拉曼光谱(SERS)进一步研究了欠电位沉积Sn的修饰对基底金属表面电子结构的调制结合原子力显微镜研究欠电位沉积Sn的氧化过程,及其在STM针尖诱导下对所形成的SnO<,2>薄层的局域还原.