原子力显微镜（AFM）由于具有很高的空间分辨能力,样品表面不需要特殊处理等优点而广泛应用于薄膜和表面微结构的分析。本文简要介绍了原子力显微镜的工作原理以及特点,并对原子力显微镜的安装调试的关键技巧和操作体会做了详细的介绍。 主要包括原子力显微镜的物理机理、扫描模式、光学检测系统的调试以及扫描过程中的问题解决等。通过实验找到了比较方便的调试光学检测系统的方法;比较了接触模式和动态模式（即轻敲模式）这两种扫描模式,说明动态模式在表面形貌测量中的突出优势;对于扫描过程中遇到的图像表面的拖动、图像的漂移、周期性干扰、软性样品的扫描、假像的辨别等问题提出了一些解决方法;通过斜度校正（Slope Correction）、压平（Flatten）、消除噪声（Erasing the Noisy Lines）等方法进行数据处理,从而得到高质量的原子力显微镜表面图像。 我们使用直流反应磁控溅射制备TiO₂低辐射薄膜。本文应用新安装的AFM观察不同制备条件下得到的TiO₂薄膜的表面形貌,希望找出它们与低辐射薄膜的红外透过性质以及微观结构的联系。主要结果如下: 用反应磁控溅射法制备TiO₂低辐射薄膜,溅射气体中的氧分压上升,可能导致氧空位增加,薄膜的电导率增大,红外透过率下降。同时,氧分压上升还可能导致薄膜晶粒长大,同样使电导率增大,进一步降低了红外透过率。 以砷化镓为代表的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体具有高度迁移率和比硅更优异的光电子等性能,许多国内外关于这类材料的研究和应用一直是热门课题。当用在激光和电子集成技术等方面时,材料表面损伤层及产生的缺陷（如位错、层错等）对其性能有极大的影响。 因为正电子湮没谱测量能直接给出缺陷的信息,我们用正电子寿命谱测量不同表面粗糙度的GaAs样品,讨论了表面形貌对常规正电子寿命测量结果的影响。