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铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜因具备成本低廉、无毒和在氢等离子体中稳定性高等优点而成为ITO薄膜的替代者。磁控溅射法具有成膜速率快,附着性好、可大面积沉积等优点而成为制备AZO薄膜首选的方法,但低温沉积的薄膜往往电阻率较高,透光性不好,难以满足光电器件的需要。最近,有文献指出低温下掺入H可以有效提高AZO薄膜的光电性能,但在不同溅射工艺参数下H对AZO薄膜光电特性的影响还缺乏全面系统的研究。本论文旨在改变镀膜工艺参数,系统研究沉积时H_2引入对AZO薄膜的透明导电性能的影响,总结出H的作用和相关的机理,