磁控溅射技术用于烧结钕铁硼防护薄膜的制备与性能研究

来源 :中国科学院研究生院 中国科学院大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ronaldocjz
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自问世以来,钕铁硼永磁体以其优越的磁性能和高的性价比很快应用到国民经济的各个领域。但是钕铁硼差的耐腐蚀性能限制了其更广泛的应用,需对其进行表面防护。磁控溅射技术具有沉积过程稳定、薄膜质量较高、膜/基结合力较好、环保等优点,是一种很有前景的防护技术。本文使用自行设计的磁控溅射设备在烧结钕铁硼表面沉积Al基防护膜,系统研究了工艺、结构与性能的关系,并进行了技术的产业化推广。   在烧结钕铁硼表面分别沉积了Al单层膜和Al/Al2O3多层膜,实现了对薄膜结构的控制。通过离子束辅助沉积方法抑制了Al单层膜的柱状晶结构,减小了孔隙率;通过改变真空室内的O2浓度,调控了Al膜的结构,沉积出了致密的非晶Al2O3膜;Al/Al2O3多层膜中Al层的柱状生长被Al2O3层打断,贯穿整个多层膜的微孔被抑制。   研究了薄膜防护的烧结钕铁硼的耐腐蚀性能、力学性能以及磁性能;通过对多层膜的结构控制,可提高Al/Al2O3多层膜防护性能;研究了Al单层膜表面的氧化膜对薄膜腐蚀行为的影响,发现氧化膜对Al膜耐腐蚀性能的提高具有重要的作用。   分别熔炼了烧结NdFeB的富Nd相、富B相和主相;比较了它们和Al膜在NaCl溶液中的开路电位,发现富Nd相具有最高的电化学活性;提出了Al膜防护的烧结钕铁硼在NaCl溶液中的腐蚀过程模型,提出当溶液通过腐蚀孔渗透到基体NdFeB时富Nd相优先溶解,Al膜可为烧结NdFeB磁体提供不完全的牺牲阳极保护。  
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