通过回顾和分析微光学领域的发展状况与趋势,特别是制作方法及其发展状况后,得出的结论是:传统微光学器件的制作方法主要有基于VLSI(Very Large Scale Integrated circuites)的二元套刻技术及由其演变而来的激光束或电子束直写技术、灰度掩模技术、全息技术和激光辅助微细加工技术等,其技术核心是平面刻蚀工艺,对于制作结构复杂的三维浮雕微光学器件存在难于克服的困难。借鉴快速成型技术发展起来的新的微光学器件制作技术——掩模成型技术,则能较好地克服平面刻蚀工艺的缺陷,但缺乏相关的掩模成型技术控制软件,这严重制约了用该技术制作微光学器件的质量稳定性和工作效率。本文针对这一情况,研究开发了一套基于掩模成型技术制作微光学器件的控制系统软件,其主要工作有:根据实验室已有的掩模成型技术制作微光学器件的硬件系统和器件制作工艺,设计出软件控制系统方案,包括微光学器件三维模型的输出;Visual C++环境下CAD模型的读取和重现算法;模型切片算法;切片后截面轮廓填充算法和生成BMP格式的掩模图片等。根据各模块的接口,逐一研究并设计出上述算法流程并对其编程实现。用模拟退火遗传算法优化设计出相位型菲涅耳波带透镜,其中主要工作有:选择相位深度为优化设计参数,确定并推导出菲涅耳波带透镜的评价函数,合理设置模拟退火遗传算法的参数,通过编程优化来获得相位深度的优化组合。以菲涅耳波带透镜为例,分析验证了本文研究开发的掩模成型技术控制系统软件,计算机仿真结果表明,此控制软件工作的可行性和有效性。该套控制软件与掩模成型技术配套,还可用于非微光学领域的微小器件制作,对发展MOEMS(Micro-Optical-Electro-Mechanical Systems)有重要意义。