【摘 要】
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金刚石薄膜是一种极具发展潜力的新型功能材料,独特的物理化学性质使其在微电子、微传感器、微机械和微光机电系统等高新技术领域有着广泛的应用前景.因此,很有必要深入研究
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金刚石薄膜是一种极具发展潜力的新型功能材料,独特的物理化学性质使其在微电子、微传感器、微机械和微光机电系统等高新技术领域有着广泛的应用前景.因此,很有必要深入研究金刚石薄膜的图形化技术.该文系统研究了以Ni/Cr、Cu/Cr或NiTi图形化薄膜作为掩模,O<,2>或O<,2>与Ar的混合气体作为刻蚀剂,用反应离子刻蚀技术对金刚石薄膜进行精密图形化或结构化加工的技术.
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