【摘 要】
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采用磁控溅射沉积技术,在单晶硅(100)基底上分别制备了两种不同体系MoS_2基多层薄膜:MoS_2/DLC(类金刚石碳)多层薄膜和MoS_2/MSN(Mo-S-N复合薄膜)多层薄膜,并考察了调制周期(即双层膜厚度,Λ)对MoS_2/DLC多层膜结构及摩擦学性能的影响,以及调制比、调制周期和氮气流量分别对MoS_2/MSN多层膜结构及摩擦学性能的影响。利用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X射线衍射仪、
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采用磁控溅射沉积技术,在单晶硅(100)基底上分别制备了两种不同体系MoS_2基多层薄膜:MoS_2/DLC(类金刚石碳)多层薄膜和MoS_2/MSN(Mo-S-N复合薄膜)多层薄膜,并考察了调制周期(即双层膜厚度,Λ)对MoS_2/DLC多层膜结构及摩擦学性能的影响,以及调制比、调制周期和氮气流量分别对MoS_2/MSN多层膜结构及摩擦学性能的影响。利用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X射线衍射仪、透射电子显微镜、纳米压痕仪分别研究了MoS_2基多层薄膜形貌、微观结构及力学性能,并利用球-盘摩擦试验机
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