在各种光学和光电系统中，减反射薄膜的广泛应用使得光电元器件的品质有了很大的提高。SiO2作为一种低折射率的透明材料，其优良的光学特性和稳定的化学特性使其在减反射薄膜的研究中有着重要的地位。而纳米柱状SiO2薄膜具有孔隙率较高、折射率和介电常数可调、热稳定性高及易于制备等特点，可应用于光学器件、传感器、集成电路和太阳能电池等领域。纳米SiO2减反射薄膜的制备已成为现今国内外的一个研究热点。　　论文在分析了传统单层、双层和多层减反射薄膜减反射原理的基础上，介绍了新型的纳米柱状二氧化硅减反射薄膜。使用倾斜气相沉积方法，通过控制入射蒸气角度、基底温度等实验条件制备出的纳米柱状薄膜具有良好的减反射效果。这种薄膜在光学领域具有广阔的应用前景。　　论文采用电子束蒸发斜向沉积的方法，在Si和石英片基底上制备了纳米柱状SiO2减反射薄膜，并用SEM&EDAX和分光光度计对样品进行表征。此方法制备的减反射薄膜具有明显的柱状结构。HF酸溶液腐蚀Si片会加快纳米柱的生长速率；较大的蒸气流入射角度，利于生长出疏松且具有良好形貌结构的纳米柱结构。纳米薄膜的减反射效果随薄膜厚度不同而发生变化，厚度为350nm的单层Si片基底纳米薄膜的反射率最低达到9.68％。这些初步的研究结果表明，将纳米柱状SiO2减反射薄膜应用在太阳能电池表面是有可能为电池效率的进一步提高发挥作用的。