【摘 要】
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该文采用了当前最为先进的微机械加工技术.利用牺牲层方法,结合半导体平面工艺,设计制出了一种具有栅型结构的惯性敏感电容.通过有限元分析与模拟仿真,解决了传感器动态性能
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该文采用了当前最为先进的微机械加工技术.利用牺牲层方法,结合半导体平面工艺,设计制出了一种具有栅型结构的惯性敏感电容.通过有限元分析与模拟仿真,解决了传感器动态性能设计中的有关问题,使制出样品性能与理论设计分析十分接近,为今后此类传感器的研究发展提供了实际可行的方法;在工艺设计方面,充分考虑了敏感电容制造工艺可能给后续电路制造工艺带来的污染,采用了多晶硅材料,使其制造工艺方法与半导体工艺相兼容,使后续测量及信号转换电路完全设计制造在同一芯片上,这不仅使传感器体积、质量缩小很多,而且使传感器的工作性能得能很大改善.在检测电路设计中,采用了高频激励方法,提高了电容的灵敏度,并通过调制、解调方法获得对微小电容变化的信号测量,并经过放大后,实现了静电伺服反馈控制.文中详细的论述了有关设计思想及方法,并对研制的传感器进行了静、动态标定,实测结果表明了该文提供的技术原理及方法可行.该种传感器不仅可以用于静态测量,而且满足动态测量的要求.
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