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本硕士学位论文在多孔硅（PS）和导电玻璃（ITO）基底上,成功制备了Pt和Cu2O纳米薄膜;用原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）研究了所制薄膜材料的形貌学特征:用X射线衍射（XRD）和能量色散X射线能谱仪（EDX）分析了薄膜材料的元素组成和晶体学性质;用循环伏安（CV）、线性伏安（LSV）、开路电位（OCP）、电流～时间（Amperometric i～t）、交流阻抗（IMP）等电化学方法分析了所制备薄膜材料的电化学性能和沉积机理;同时较系统地研究了该薄膜在电化学催化方面的应用前景。论文主要内容如下:1.利用化学镀（Electroless deposition or chemical deposition）原理和p-Si（100）片作为基底,采用浸入沉积（Immersion deposition）技术,在该基底表面首先成功制得Ag、Au、Pd和Pt的晶粒层;用原子力显微镜（AFM）、开路电位（OCP）和交流阻抗（A.C.Impedance）方法对所制备的晶粒层表面形貌、电化学特性进行了系统表征和研究。结果显示,Ag、Pd和Au金属在沉积60s后即可完全覆盖基底,可以作为晶粒层使用;而Pt沉积量较少,不能作为晶粒层使用。Ag、Pd和Au作为晶粒层的使用,应当参考实际需要而考虑。2.采用浸入沉积技术,首次成功的在多孔硅表面制备了Pt纳米薄膜。用X射线衍射（XRD）、能量色散的X射线能谱仪（EDX）和扫描电镜（SEM）表征了该薄膜的组成和形貌。结果显示所制备的Pt纳米薄膜具有较小的粒径和较大的比表面积。用循环伏安法（CV）对该薄膜的催化活性进行了研究,证明当沉积时间超过24 min时,薄膜对甲醇的氧化有良好的催化活性。3.在柠檬酸钠（Na3C6H5O7）缓冲溶液中,用恒电位沉积法在导电玻璃（ITO）表面制备了p型纳米半导体氧化亚铜（Cu2O）薄膜。用场发射扫描电镜（FE-SEM）、X射线衍射（XRD）和循环伏安法（CV）对薄膜的形貌和成分进行了分析;用开路电位—时间（Ocpt～t）技术对薄膜的光化学性质进行了表征。结果表明薄膜的形貌和成分明显受沉积电位和溶液pH值的影响,制备的薄膜有理想的光电转换效应。同时对薄膜的沉积机理和催化机理进行了分析。