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本文介绍了硅薄膜的发展状况、结构特点、性质以及应用,详细阐述了硅薄膜制备技术——化学气相沉积(CVD)方法的原理、特点和用途等,并简要概述镀膜玻璃的节能性能表征。 模拟浮法在线镀膜玻璃生产工艺,采用常压化学气相沉积(APCVD)技术以硅烷(SiH_4)为主要原料气体在移动的玻璃基板上制备硅薄膜。利用透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱(Raman)及红外光谱(FTIR)等手段系统研究了沉积温度、掺杂等制备工艺对薄膜微结构的影响,并分析了微结构的成因。