氟化TiO<,2>和WO<,3>薄膜的电化学制备、表征及其光电化学性能的研究

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近年来,半导体光催化技术在光电转换以及降解环境污染物等方面得到了广泛的研究。TiO_2由于具有活性高、光化学性质稳定、无毒等优点而成为首选。但是由于其光催化反应速率还很低(不大于1%),对太阳光吸收范围窄,只能吸收紫外光部分,限制了其对太阳能的利用。因此,本文对TiO_2表面进行电化学氟化的方法来提高其光电化学性能,同时该方法拓展到WO_3以提高其可见光的光电化学性能。全文分为两大部分。第一部分,主要探索了提高锐钛矿型TiO_2光电化学和光催化活性的方法。采用电化学刻蚀的方法。在含氟水溶
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