【摘 要】
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有机玻璃(PMMA)高分子聚合物是MEMS和MOEMS制备工艺中的重要材料,它的刻蚀效果直接影响到元器件的质量.研究PMMA刻蚀有着实际的应用意义.该论文的目的是通过对PMMA进行深度反
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有机玻璃(PMMA)高分子聚合物是MEMS和MOEMS制备工艺中的重要材料,它的刻蚀效果直接影响到元器件的质量.研究PMMA刻蚀有着实际的应用意义.该论文的目的是通过对PMMA进行深度反应离子刻蚀及其侧壁钝化效果的研究,获得高深宽比,侧壁光滑陡直,底面平整光滑刻蚀效果的最佳工艺条件.在实验的基础上,该文分析了PMMA氧化分解的机理,研究了不同的反应离子刻蚀条件(包括刻蚀气体成分及其成分比、刻蚀功率、刻蚀气压、气体流量、刻蚀温度)下所获得的不同刻蚀效果(刻蚀速率,刻蚀结构侧壁和底面形貌等).应用低气压下的纯O<,2>和不同成分比的O<,2>/CHF<,3>作为刻蚀气体,在其他一定的工艺条件下,实现了高深宽比,侧壁陡直光滑,底面平整光滑的刻蚀效果.该实验观察到随着纯氧刻蚀气体气压的下降,或O2+CHF3混合气体CHF3成分比的增加,或刻蚀温度的降低,侧壁形状由内蚀弯曲状态变到陡直光滑.同时讨论了反应离子刻蚀中出现了"微掩膜"现象和试样的装载效应.
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