【摘 要】
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为了满足大气辐射系统中的光学元件的使用要求,即在可见光及近红外波段范围具有高透过率,根据双有效界面法设计原理配合TFC膜系软件设计膜系,采用离子辅助沉积,电子束真空镀
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为了满足大气辐射系统中的光学元件的使用要求,即在可见光及近红外波段范围具有高透过率,根据双有效界面法设计原理配合TFC膜系软件设计膜系,采用离子辅助沉积,电子束真空镀膜的方法,通过对真空度、基底温度、TiO2膜料蒸发速率等工艺参数的调整和膜层厚度的监控方法的改进,采用Al2O3,MgF2,TiO2,SiO2四种镀膜材料,在K9基底上制备了400—1100nm宽带增透膜。并用分光光度计测量了薄膜的透过率,得到透过率光谱曲线。所镀膜层在垂直入射时,400—1100纳米波段平均反射率小于1.5%。最后对制备的增透膜进行了各种环境测试,环境测试结果显示,膜层的各项指标都达到了设计要求。
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