【摘 要】
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本文综述了多弧离子镀沉积技术的原理和发展,阐述了多弧离子镀沉积技术在工业,方面的应用。 介绍了多弧离子镀设备构成,并以Cr、Ti、TiAl靶为例,测量了实验系统中影响沉积
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本文综述了多弧离子镀沉积技术的原理和发展,阐述了多弧离子镀沉积技术在工业,方面的应用。 介绍了多弧离子镀设备构成,并以Cr、Ti、TiAl靶为例,测量了实验系统中影响沉积薄膜性能的有关参数。采用多弧离子镀沉积Cr-N、TiAlN硬质薄膜,分析了不同参数对薄膜结构和性能的影响,例如N2—Ar气氛比,衬底偏压,弧电流等。 分析结果表明,Cr-N薄膜显著提高了基体的显微硬度和耐磨性,Cr-N薄膜硬度是基底硬度的4-8倍。X射线衍射谱表明,随着氮气含量的提高,Cr-N薄膜的相结构发生改变,从单相Cr-Cr2N,然后过渡到Cr2N+CrN,最后到单相CrN。实验结果主要与选择的气氛比有关。而对于TiAlN来说,沉积薄膜中主要以TiAlN与Ti2AlN为主,也含有AlN与TiN,Al对溥膜硬度的影响是由于Al原子的加入改变了薄膜的组织结构所造成的。 偏压对制备的Cr-N薄膜的硬度影响较小。弧电流对硬度的影响较人,弧电流增加,薄膜的硬度降低。分析认为,弧电流增大,金属粒子的数量增加,金属粒子和N粒子相对含量发生变化,从而导致薄膜的微观结构发生改变。对Cr-N薄膜进行X射线衍射分析,结果表明,弧电流增大,Cr-N薄膜X射线的主峰由CrN相变为Cr相
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