【摘 要】
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本文概概述了透明导电薄膜的性能、制备技术和应用前景。并以ZnSO_4．7H_2O和NH_4Al(SO_4)_2．12H_2O为主要原料，NH_4HCO_3为沉淀剂采用液相共沉淀法制备了Al_2O_3，含量为2.5wt％的ZnO／Al_2O_3，超细复合粉末；分别在不同温度下对复合粉末进行H_2气还原处理：分别以ZnO／Al_2O_3复合粉末、还原ZnO／Al_2O_3复合粉末、纳米ZnO与纳米γ-
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本文概概述了透明导电薄膜的性能、制备技术和应用前景。并以ZnSO_4．7H_2O和NH_4Al(SO_4)_2．12H_2O为主要原料，NH_4HCO_3为沉淀剂采用液相共沉淀法制备了Al_2O_3，含量为2.5wt％的ZnO／Al_2O_3，超细复合粉末；分别在不同温度下对复合粉末进行H_2气还原处理：分别以ZnO／Al_2O_3复合粉末、还原ZnO／Al_2O_3复合粉末、纳米ZnO与纳米γ-Al_2O_3的混合粉末为原料采用热等静压(HIP)工艺制备了ZnO／Al_2O_3陶瓷靶材；对ZnO／
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