本论文采用一种新的方法制备PS/PMMA薄膜样品，具体的方法是：首先在亲水性硅片基底上采用旋转涂膜的方法制备一层PMMA薄膜，然后在其上直接旋涂PS溶液。当选用的PS溶剂为两聚合物共溶剂时，制备的是PS/PMMA混合物薄膜；当选用只能溶解PS的选择性溶剂时，得到的是PS/PMMA双层膜。利用原子力显微镜(AFM)、光学显微镜(OM)、X-射线光电子能谱(XPS)等手段，系统研究了PS/PMMA混合薄膜在初始状态、退火过程及外场作用下的形态演化规律。研究发现，对于上述旋涂法得到的混合物薄膜的表面形貌主要由两种聚合物在溶剂中的相对溶解性和去润湿程度决定。在退火处理过程中，薄膜表面组成与形貌向热力学平衡状态发展。相对而言，在低温退火情况下，可以成功观察到颗粒与孔洞共存的退火初期形貌。而在高温退火情况下，PS/PMMA混合薄膜表面形貌的发展变化十分迅速，某些具体阶段的相态演化很难捕捉到。 本论文首次提出了利用亲水性硅片改变薄膜表面高分子与边界相互作用延缓薄膜表面形貌发展的方法。研究表明，在5Rg(Rg为分子链无扰旋转半径)的范围内可明显检测到亲水性硅片对PMMA的影响；而超出28Rg时，此影响不再存在。利用改变薄膜表面高分子与边界相互作用的方法还可控制PS/PMMA双层膜的去润湿过程制备新颖表面形貌。研究发现，将亲水性硅片覆盖于双层膜表面，可容易诱发PS/PMMA界面处的物质重新分布，导致一种全新的颗粒与圆环共存的去润湿形貌形成。