镁合金电子壳体材料微弧氧化及其后处理工艺的研究

来源 :长春工业大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:PEIDAO
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本文中,在碱性硅酸盐体系中,采用正交实验方法,通过分析MB8镁合金表面上形成的膜层形貌和耐蚀性,确定了电解液的最佳浓度。而后在此浓度的电解液中,利用相同方法,确定了最佳的电参数,由此确定了该硅酸盐体系的最佳微弧氧化工艺。通过最佳工艺形成的微弧氧化膜层,一定程度地提高了镁合金试样的耐蚀性,但由于微弧氧化膜层上存在微孔和裂纹等微观缺陷,这些缺陷为腐蚀性介质的迁移提供了通道。因此,采用阴极电泳作为微弧氧化的后处理工序,在镁合金试样表面形成了微弧氧化-电泳涂装复合涂层。动电位极化实验和盐水浸泡实验,均表明复合膜层具有最好的耐蚀性。实验结论如下:(1)电解液正交实验中,对膜层厚度的影响次序为:硅酸钠>氟化钾>甘油>氢氧化钾。而对耐蚀性的影响次序为:氢氧化钾>硅酸钠>氟化钾=甘油。通过各个因素对形貌、耐蚀性的影响的分析,电解液的优化结果为:硅酸钠10g/l、氟化钾6g/l、氢氧化钾6g/l、甘油5ml/l。(2)电参数对微弧氧化膜层厚度的影响次序为:终止电压>占空比>频率>电流密度。而对耐蚀性的影响次序为:终止电压>频率>占空比=电流密度。通过各个因素对形貌、耐蚀性的影响的分析,电参数优化结果为:频率400Hz,占空比30%,终止电压410V,电流密度3A/dm2。(3)在最优化工艺条件下,形成的微弧氧化膜层为晶态结构,由MgO、MgSiO4、MgF2、Mg14(SiO4)5O4相构成。复合膜层与优化后的微弧氧化膜层和MB8镁合金相比,腐蚀电位分别正移了约1000mV和1200mV,而腐蚀电位则分别下降了约5个和10个数量级。在5%NaCl溶液中,微弧氧化膜层的腐蚀形式为点蚀+丝状腐蚀。微弧氧化-电泳涂装复合膜层的腐蚀形式为丝状腐蚀。(4)微弧氧化过程中,随着电压的增大,放电火花尺寸增大,亮度增高,颜色从蓝白色转变为橙色,数量先增大后减小。并可以分为四个阶段:传统阳极氧化阶段、火花阳极氧化阶段、微弧氧化阶段和弧光氧化阶段。
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