不同状态的TiN涂层电化学腐蚀机理研究

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TiN由于具有高熔点、高硬度、低摩擦系数和优良的化学稳定性等性能广泛用作涂层材料,在腐蚀环境中的研究与应用日益增多。但应用较多的是气相沉积的TiN薄膜,薄膜厚度较小,降低其在腐蚀环境中的耐蚀性。本文采用反应等离子喷涂技术制备了平均厚度为300μm的TiN涂层。采用Ecorr-t、极化曲线和电化学阻抗谱(EIS)以及扫描电子显微镜(SEM)、能谱分析(EDS)、X射线衍射(XRD)等方法,研究了采用调整制备的工艺参数-喷涂功率及后续封孔处理和热处理对涂层电化学腐蚀过程的影响及机理,研究结果表明:  1)Ecorr-t和动电位极化曲线测试结果表明,喷涂功率为21kW、24kW及28kW制备TiN涂层的Ecorr及Icorr的大小排序为:Ecorr(28kW)>Ecorr(24kW)>Ecorr(21kW)>Ecorr(sub),Icorr(28kW)
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