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在过去的三十年间,固体电子学迅速发展,半导体和集成电路工业已相当成熟,人们一直梦想将磁性器件与半导体工艺集成起来,形成磁电子学的新领域。因而磁性金属薄膜在半导体衬底上的生长以及特性研究成为集成化磁电子学新器件的关键性应用基础研究,目前正受到越来越多的重视。本论文以Fe_3O_4单晶外延薄膜为主要研究对象,运用铁磁共振,结构、磁性和电性测量等实验方法,对薄膜的电输运特性,磁各向异性,磁矩和阻尼因子进行了较为系统的初步研究。研究内容包括以下几方面的内容:1.外延的Fe_3O_4薄