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该文基于新型的超高速光导开关,利用AFM在多种条件下对金属Ti膜和半导体Si基底进行了阳极氧化加工,深入研究了加工的机理和可靠性,提出了实现超高速光导开关的方法和结构设计,利用STM/AFM测量了对向靶直流磁控溅射加工的Ti膜的表面粗糙度和导电性,提出了超高速光导开关的测试方法.
基于AFM阳极氧化加工的超高速光导开关的研究
【摘 要】
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该文基于新型的超高速光导开关,利用AFM在多种条件下对金属Ti膜和半导体Si基底进行了阳极氧化加工,深入研究了加工的机理和可靠性,提出了实现超高速光导开关的方法和结构设计
【机 构】
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天津大学
【出 处】
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天津大学
【发表日期】
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2003年期
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