石英玻璃在国防、化工、医疗、机械等各个领域发挥着极为重要的作用。石英玻璃的磁流变抛光技术的超光滑抛光工艺的研究，目前国内这方面的报道较少。本论文对石英玻璃的磁流变抛光的研究工作在国内是较早进行的。 磁流变抛光技术中，磁场强度、工作轴转速、平摆速度、间隙等影响工件最终加工质量的重要因素。本文采用正交实验研究的方法，以石英玻璃为加工对象，利用实验室磁流变抛光机开展研究，对精磨后的平面石英玻璃工件进行抛光工艺实验，研究其抛光工艺参数与石英玻璃表面粗糙度的关系。探讨石英玻璃磁流变抛光的超光滑抛光工艺。同时对精磨、抛光后破坏层深度问题进行了初步探讨。研究了主轴与摆轴之间速度匹配问题，采用正交试验的研究方法，对Ф60mm的K9玻璃和石英玻璃分别进行抛光实验。 通过研究表明：石英玻璃是可以实现超光滑加工。经过组合抛光石英玻璃表面粗糙度达到了0．54037nm。并得出抛光的最佳工艺参数。石英玻璃表面的凹凸层深度和被磨去量仅与磨料粒度有关，与研磨前初始粗糙度无关。石英玻璃精磨和抛光后破坏层深度与磨料粒度基本成线性关系。石英玻璃的去除效率和光学玻璃是相当的，如K9玻璃；同时，K9玻璃和石英玻璃相比：K9玻璃的抛光效率与精度都高于石英玻璃；并且主轴速度对抛光均匀性有着重大的影响。 本文还在实验现象的基础上，结合抛光理论，对石英玻璃的磁流变抛光机理做了初步的分析，认为磁流变抛光是由于抛光液的流动使抛光颗粒对工件材料进行了剪切去除。并研究了抛光时间、抛光液浓度、磁场强度对磁流变抛光去除率的影响规律。