干涉光刻技术集激光、干涉和衍射光学及光学光刻于一体，是国家自然科学基金资助的微细加工技术和微电子领域的前沿研究课题，对其进行理论、模拟和实验研究，对推进光学光刻极限，发展我国纳米微电子和光电子器件、新型大屏幕平板显示器和新型光刻机具有重要的科学意义和广阔的应用前景。 本论文基于光的干涉和衍射及光学全息照相理论，综合评述了光学光刻的基本原理、主要类型、发展趋势及开展激光无掩模干涉光刻和全息光刻研究的目的和意义。 深入研究了无掩模激光干涉光刻技术用于高分辨、大视场、深亚微米和纳米图形生成的基本原理、理论、主要类型和实现方法。建立了多光束、多曝光技术，包括双光束单曝光、双光束双曝光、三光束单曝光、三光束双曝光、四光束和五光束干涉的数学物理模型，编制了模拟软件并进行了大量的计算模拟研究，得到很多有用的结果。建立了无掩模多光束多曝光干涉光刻实验系统，提出了一种采用梯形棱镜进行波前分割和利用可选择光阑进行多种多光束多曝光干涉光刻研究的实验系统，进行了干涉光刻实验研究，对模拟和实验结果进行了分析。对影响干涉光刻结果的主要因素作了深入的分析，研究了提高干涉图形对比度和周期稳定性的方法。 对全息光刻的原理、理论、实现方法及传统光掩模—全息掩模—抗蚀剂图形传递机理进行了深入的研究，设计和建立了采用直角棱镜和折射率匹配液的全内反射波前共轭全息光刻实验系统，进行了实验研究。激光干涉光刻技术研究四川大学博士学位论文 理论研究、计算模拟和实验结果分析表明，无掩模激光干涉光刻和全息光刻具有大视场、高分辨率、无畸变、系统相对简单、成本较低，实现方便等特点，具有广阔的应用前景。故本文还着重研究了干涉光刻技术的一些主要应用。在微电子、光电子器件、大屏幕平板显示器、场发射器阵列、表面声波器件、光子晶体、光波导阵列、全息透镜和微光学元件阵列、微结构制造，高分辨、大面积光栅和网格制造，在抗蚀剂性能测试、面形测量和计量等领域，干涉光刻技术都具有广阔的应用前景。 本文涉及的研究仅仅是干涉光刻研究的起步，为使干涉光刻技术的潜在能力在众多的领域中得到实际应用，更进一步的深入研究是十分必要的。