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超支化聚合物具有高度支化的分子拓扑结构,独特的物理化学性能以及易于合成及修饰的特点,目前已经成为高分子科学研究的重要领域。然而具有光敏性能的超支化大分子的研究才处于起步阶段。本文通过对超支化聚酯进行端基修饰得到多种具有光敏性能的聚合物,并对其在光交联/解聚与光响应方面的性能进行了相关研究。此外,还利用“thiol-ene”体系的光敏性能合成了聚（硫醚-酯）系列的超支化多元醇。1.超支化聚酯端基修饰及其“thiol-ene”体系光聚合性能研究通过对Boltorn?系列超支化聚酯多元醇进行巯基封端,从而得到超支化多巯基大分子TAH40;还通端基修饰得到了基于Boltorn?H20的超支化多烯丙基醚低聚物AEH20,以及基于Boltorn?P1000的超支化多官能团降冰片烯低聚物NCP1000。将上述产物与多官能团单体分别组合形成二元“thiol-ene”光聚合体系,并对其UV光聚合反应性能进行了相关研究。2.多巯基超支化聚酯的制备及其“thiol-acrylate”体系无引发剂光聚合性能研究对超支化聚酯Boltorn?H20与P1000进行巯基乙酸酯化封端合成多巯基超支聚酯TAH20与TAP1000,使其与不同官能度的丙烯酸酯单体组成无引发剂的二元“thiol-acrylate”光固化体系,采用Photo-DSC研究了其光聚合反应行为。研究发现,该体系在无引发剂存在下亦表现出很高的光敏性能,在较高巯基浓度下,在室温及空气环境中UV辐照即可迅速交联。3.4-甲基香豆素端基超支化聚合物的合成及其可逆光响应行为研究利用“thiol-ene”反应,对超支化聚酯Boltorn?H40进行修饰,获得了具有光响应性能的端基为4-甲基香豆素基团的超支化聚合物MCTH40。通过1HNMR、FT-IR光谱与GPC方法对产物进行了结构表征。对产物可逆的光致交联(UVA,λmax=365 nm)以及光致解聚(UVC,λmax=254 nm)行为采用紫外-可见吸收光谱与荧光光谱的测定分析进行了研究。通过RAFT聚合方法,合成了线形香豆素类聚合物PVBMC,对具有不同拓扑结构的功能聚合物MCTH40与PVBMC的可逆光响应行为进行了比较研究。4.7-羟基香豆素端基超支化聚酯的合成及其可逆光响应与pH响应性能研究首先合成含有7-羟基香豆素基团的丙烯酸酯类单体（EGCA）,通过“thiol-ene”加成反应对巯基改性的超支化聚酯进行封端修饰,得到香豆素端基的超支化聚酯。采用1HNMR、FT-IR和GPC方法对其结构进行了分析表征;对HCTH40的可逆光致交联/解聚行为以及pH响应性能进行了相关研究。5.“巯基-双建反应合成超支化聚（硫醚-酯）多元醇及其结构表征利用高效的“thiol-ene”加成反应,先以双羟甲基丙酸对苯乙烯苄酯（BMPVB）与多元巯基单体合成了结构较规整的聚（硫醚-酯）多元醇PTE[OH]-A1/B1,再通过巯基封端修饰,再“thiol-ene”UV辐照加成反应,合成了具有较高官能度与分子量的聚（硫醚-酯）多元醇PTE[OH]-A2/B2与A3/B3。通过1HNMR、FT-IR和GPC方法对产物结构进行了表征。