【摘 要】
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该文研究了电沉积Ni-W-P以及化学沉积Ni-P合金的沉积原理及工艺,讨论了电解液的温度、pH值及电流密度(Dk)对电沉积层成分和结构的影响,分析研究了pH值和电流密度对电沉积层硬
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该文研究了电沉积Ni-W-P以及化学沉积Ni-P合金的沉积原理及工艺,讨论了电解液的温度、pH值及电流密度(Dk)对电沉积层成分和结构的影响,分析研究了pH值和电流密度对电沉积层硬度及耐蚀性的影响,同时对比研究了电沉积Ni-W-P及化学沉积Ni-P两种合金的组织结构、耐蚀性及其他性能.结果表明:由电沉积法可以得到表面致密、光亮,具有优良性能的Ni-W-P合金层;经过不同温度的热处理,两种合金的镀层结构以非晶态→混晶态→结晶态的顺序变化;在400℃左右的热处理镀层发生晶化转变;在镀态及经热处理后,电沉积Ni-W-P合金均具有比化学沉积Ni-P合金更为优异的耐蚀性;两种合金经400℃的热处理后,显微硬度均达到极大值,且电沉积Ni-W-P合金镀层的硬度较高.
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