模拟苦咸水中铜腐蚀行为的研究

来源 :北京化工大学 | 被引量 : 13次 | 上传用户:datang0826
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本文采用重量法、电化学方法及表面分析方法研究了NaCl、NaHCO3和Na2SO4溶液中以及在三者之间的相互作用下铜的腐蚀行为。并深入探讨了温度、pH、Cl-、HCO3-、SO42-和Mg2+对铜在在苦咸水中腐蚀行为的影响,以及缓蚀剂HS-99对铜在苦咸水中的缓蚀作用效果,实验结果表明: Cl-、HCO3-和SO42-都是对铜有侵蚀性的活性阴离子,能引发铜产生孔蚀,其中[Cl-]≥0.05mol/L时引发铜产生孔蚀,其浓度的增加有利于铜孔蚀的引发,但对孔蚀的发展不利,腐蚀过程中全面溶解占主导地位;[HCO3-]在低浓度下易引发铜产生孔蚀,当[HCO3-]≥0.05mol/L时铜不发生孔蚀处于钝化状态,但对铜的侵蚀性没有降低;[SO42-]≥0.02mol/L时易引发铜产生孔蚀,随其浓度的增加孔蚀电位降低,但对孔蚀的发展有抑制作用。 温度升高铜在苦咸水中的腐蚀倾向增大。 铜在弱碱性苦咸水中发生均匀腐蚀,pH升高腐蚀倾向降低;弱碱性苦咸水中铜易产生孔蚀,孔蚀电位随pH升高而增大;强碱性(pH=12)苦咸水中铜钝化不发生孔蚀。 苦咸水中含有的Cl-、SO42-和HCO3-都是对铜有侵蚀性的离子。Cl-是其中侵蚀性最强的离子,促进铜的全面腐蚀,SO42-和HCO3-对铜的腐蚀有一定的抑制作用。虽然三种离子都能够引发铜产生孔蚀,但在苦咸水中Mg2+对孔蚀的发展有很大的促进作用。 HS-99对铜在苦咸水中的腐蚀具有优异的缓蚀效果。HS-99缓蚀剂加入后使铜的孔蚀电位上升了400多毫伏。属于阳极抑制型缓蚀剂,缓蚀效果优于传统的铜缓蚀剂BTA和TTA。
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