本论文分析了开展非期望中子实验研究目的，以及在工程模拟实验中的重要意义。对非期望中子和非期望信号，作了界定与解析，对非期望中子实验结果的影响进行了较为仔细的分析。 在工程模拟实验中，加速器的中子源信号监测、环境散射及探测器结构材料等都可能产生非期望中子。加速器的d-T反应中子产额是通过测量伴随反应产生的α粒子得到。如果因α粒子监测中的非期望信号不得到甄别，这也可理解为中子产额值中引入了“非期望中子”源。 介绍了伴随粒子法测量D-T反应中子注量的原理和方法。对伴随粒子法监测的α粒子谱进行了分析，对各种可能出现的谱进行了讨论，对影响中子注量的一些干扰因素进行了理论分析和计算。给出了中子注量测量误差的主要来源。 开展了铀裂变室探测器效率的研究，对影响探测器对期望中子或非期望中子探测的各种因素进行了分析和实验研究。获得了探测器之间扰动、探测器外壳、支架材料对信号中子测量无明显影响的结果；对²³⁵U裂变电离室，需采用中子吸收截面低的材料，对实验装置的支撑材料和屏蔽材料宜选用低Z材料且尽量减少用材。 对加速器d-T中子源自生靶中子和管道中子，通过改变不同靶片，用伴随粒子法和长计数器进行测量，评估了自生靶中子和管道中子的影响。结果表明后者比前者影响小一个量级以上。自生靶中子的影响跟靶使用的时间有关，当质子（d+D反应）计数α粒子计数比值超过实验规定要求时，应及时改用新靶。一般，自生靶中子在d-T中子源中所占的份额小于1％。 在工程模拟实验中，中子源与探测器相距较近，不能用阴影屏蔽锥法直接测量散射中子本底（即非期望中子）。需用MCNP／4A程序计算实验大厅的散射中子本底分布。采用专门设计的屏蔽法研究散射中子本底。并和MCNP／4A程序计算相结合的方法扣除了在特定实验条件下实验大厅的散射中子本底。