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采用射频磁控溅射法制备了具有高饱和磁化强度的 Fe-N 薄膜。系统研究了氮气分压、基底温度,溅射功率等制备工艺条件对 Fe-N 薄膜结构和磁性的影响,以及 Fe-N 薄膜的饱和磁化强度的尺寸效应。 实验结果表明在各种制备工艺条件中氮气分压和基底温度是影响Fe-N薄膜结构和磁性的两个最主要的因素。薄膜中各种Fe-N相的形成强烈的依赖于溅射过程中氮气分压和基底温度的高低。当氮气分压为 2×10-4