【摘 要】
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该研究提出了制备“原位有机修饰”纳米粒子的新构想.即：从具有X-M-Y结构的化合物出发（其中：M为易水解形成氧化物的Si、Ti等元纱;X和Y表示化合物中至少含有的两类水解反应活性不
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该研究提出了制备“原位有机修饰”纳米粒子的新构想.即：从具有X-M-Y结构的化合物出发（其中：M为易水解形成氧化物的Si、Ti等元纱;X和Y表示化合物中至少含有的两类水解反应活性不同的有机基团）,通过控制水解反应的条件,利用X和Y基团的水解反应活性不同,使较容易水解的基团在水解反应中脱去,形成HO-M-键,进而逐渐脱水形成无机纳米粒子的晶体网络;而较难水解的有机基团中的一部分可能不参加水解反应,部分保留在无机晶体网络的外缘.这样在制备纳米粒子的同时,利用原料中保留的未水解的有机长链达到表面有机修饰改性的目的.国内外文献报道中,尚未见到有类似构思的体系.
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