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随着科学技术日新月异的发展和薄膜产业的腾飞,不同的需要对薄膜技术和薄膜材料提出了各种各样的要求。为了确定薄膜的性质,人们提出了各种各样的研究方法和测试手段,椭偏测量因其具有很高的测量灵敏度和精度,广泛应用于光学薄膜性能的研究。本文从研究制备条件对非晶态TiO2薄膜的透射率及光学参数的影响出发,利用分光光度计测量薄膜的透射率;椭圆偏振光谱仪作为确定薄膜光学参数的测试仪器。详细研究了采用递进式拟合法对提高椭偏参数拟合精度;对采用NAF色散模型对非晶态TiO2薄膜进行椭偏建模的合理性;以及不同制备条件对非晶态TiO2薄膜光学特性的影响。其研究方法和结果为利用椭圆偏振光谱仪确定薄膜的光学参数,以及制备高折射率的非晶态TiO2光学薄膜均具有实际的应用价值。全文主要包括以下四部分:第一章绪论部分,对薄膜材料的应用和技术的发展,以及常用的几种确定薄膜材料光学常数的方法就行了概述,并对本论文的工作进行了说明。从第二章到第四章是本论文的核心部分。在第二章中,对非晶态TiO2光学薄膜样品的制备（成都产ZZS630真空镀膜机）以及测试设备（日本产岛津UV-3101PC分光光度计和法国产UVISEL椭圆偏振光谱仪）进行了概述,并详细描述了薄膜样品的制备和性能测试步骤以及注意事项。在第三章中,对利用椭圆偏振光谱仪确定薄膜的光学参数的实验数据拟合阶段,以SiO2和TiO2光学薄膜为例,详细研究了递进式拟合方法对椭偏参数拟合精度的提高,采用该方法,使得均方差x2越来越小,从而得到薄膜光学参数更为准确。在椭偏建模阶段,选用NAF色散模型,对非晶态TiO2薄膜进行椭偏建模,通过与Cauchy色散模型的拟合结果进行对比,从而证明了选用NAF色散模型的合理性。在第四章中,研究了制备条件对非晶态TiO2薄膜光学特性（透射率及光学参数）的影响。基底温度和工作气压对非晶态TiO2薄膜光学特性的影响主要表现为:1、非晶态TiO2薄膜的透射光谱随着基底温度的升高而降低,且极值点向短波方向漂移,这说明薄膜的折射率随着基底温度的升高而增大。这种现象在椭偏仪的拟合结果得到了很好的证明。2、非晶态TiO2薄膜的透射光谱随着工作气压的降低而降低,极值点也存在向短波方向的漂移,这说明随着工作气压的降低薄膜折射率增大。且这种现象也在椭偏仪的拟合结果中得到了证明。因此,要获得大折射率的非晶态TiO2光学薄膜可以通过升高基底温度或降低工作气压来制备。