【摘 要】
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在论文中基于抗蚀剂的光化学和反应动力学理论,重点研究了一些非线性因素对厚层抗蚀剂光刻带来的影响.针对厚层抗蚀剂在日曝光过程中折射率发生了变化以及曝光参数随抗蚀剂厚
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在论文中基于抗蚀剂的光化学和反应动力学理论,重点研究了一些非线性因素对厚层抗蚀剂光刻带来的影响.针对厚层抗蚀剂在日曝光过程中折射率发生了变化以及曝光参数随抗蚀剂厚度变化的特点,改进了原有的曝光模型;针对厚层抗蚀剂显影随抗蚀剂厚度变化的特点以及在显影过程中出现的表面抑制效应现象,改进了原有的显影模型,建立了适用于厚层抗蚀剂光刻的成像新模型.同时,在论文中还深入讨论了抗蚀剂折射率变化对光场计算带来的误差;模拟了后烘过程对驻波效应的改善作用,论证了采用适当的烘工艺改善抗蚀剂光刻质量的作用;分析了驻波效应对厚层抗蚀剂显影轮廓的影响,提出了一个可以忽略驻波效应影响的抗蚀剂厚度条件值;最后还模拟和分析了厚层抗蚀剂显影轮廓特点并给出了实验结果.
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